In un laboratorio super-sicuro di Shenzhen, la Cina sta sperimentando una delle sue iniziative tecnologiche più ambiziose. Fonti di Reuters riportano che, all’inizio del 2025, un team di scienziati e ingegneri ha sviluppato un prototipo funzionante di macchina per la litografia a ultravioletti estremi (EUV). Strumento fondamentale per la produzione dei chip più avanzati, impiegati in AI, smartphone e sistemi militari. La macchina, grande quanto un intero piano industriale, è capace di generare luce EUV, ma non ha ancora prodotto chip operativi. Il governo cinese fissa come obiettivo il 2028 per l’avvio della produzione commerciale. Anche se esperti interni valutano più realistico il 2030. Se il programma rispettasse tali tempistiche, ridurrebbe notevolmente il divario con l’Occidente, anticipando di anni le stime degli analisti.
Ecco la nuova macchina per la litografia dalla Cina
Dal punto di vista operativo, la macchina cinese è più grande e meno raffinata delle controparti occidentali, ma funziona: i laser colpiscono gocce di stagno fuso migliaia di volte al secondo. Generando plasma a temperature estreme, un processo che richiede precisione micrometrica e materiali avanzati. La sfida futura sarà migliorare tali dettagli e completare una filiera dei semiconduttori completamente nazionale, riducendo la dipendenza dall’estero e rafforzando la posizione della Cina sul mercato globale dei chip.
Al momento, l’EUV è monopolio della olandese ASML, le cui macchine costano circa 230 milioni di euro. E sono essenziali per colossi come Nvidia, AMD, TSMC, Intel e Samsung. Dal 2018, i Paesi Bassi hanno vietato la vendita alla Cina sotto pressione degli Stati Uniti. Nel 2022, Washington ha ulteriormente inasprito le restrizioni sull’export, rallentando così l’accesso di Pechino a tale tecnologia critica. Il progetto cinese rientra nella strategia nazionale sui semiconduttori, con Huawei in prima linea come coordinatore. L’iniziativa ha richiamato il paragone con il “Manhattan Project”, per l’entità e la segretezza dello sforzo collettivo.
Tra le mosse decisive del programma c’è stata l’assunzione di ex ingegneri ASML di origine cinese. Alcuni dei quali operavano sotto falso nome. Grazie alla loro esperienza, la Cina ha potuto tentare il reverse engineering dei sistemi EUV. Allo stesso tempo, Pechino ha reperito componenti da macchine ASML obsolete e prova a replicare internamente elementi complessi come i sofisticati sistemi ottici. Ancora oggi tra i principali limiti del prototipo.
